材华科技请求一种蓝色光刻胶用三芳基甲烷染料及其组成办法专利，具有优异才能的色光功能

  LTC请求用来制造显现器的光刻胶剥离液组合物专利，具有优异才能的光刻胶去除才能

  日本光刻胶三巨子10月1日提价15%，高端涨22%，国产代替窗口被硬生生扯开

  合肥维信诺请求曝光机设备和光刻胶曝光办法专利，辅佐光源被装备为在曝光光源对待曝光基材进行曝光处理且产生宕机时，以敞开并对待曝...

  安集科技跌0.32%，成交额8.54亿元，近5日主力净流入4648.76万

  美国管住了光刻机，荷兰管住了EUV，日本管住了光刻胶，却没人留意我国早就掐住另一条命脉

  晶瑞电材跌1.17%，成交额2.79亿元，今天主力净流入679.44万

  材华科技请求卤素替代峻峭截止光谱蒽醌染料组成办法及其运用专利，使所得染料相较于未卤素替代的对应结构具有更峻峭的截止光谱

  云极芯请求避免陶瓷基板通孔开路专利，大幅度的降低了因为通孔开路导致的不良率

  【IPO追寻】彤程新材（首挂破发：顶格定价遇冷认购，光刻胶龙头H股首秀承压

  新股首日   彤程新材(09607)首挂上市 早盘低开9.09% 公司聚集光刻胶与轮胎树脂事务

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  无锡兴华衡辉科技请求光刻板维护清洁及高效光刻曝光办法专利，统筹光刻板清洁度与曝光作业功率

  晶合集成请求光刻胶去除办法及半导体结构专利，原位催化并增强亲核断键的功率

  能动科技请求用于激光成像的干膜光刻胶的感光功能查验测验办法及体系专利，提高了多高度描摹数据的运用程度

  启真量子请求超导量子芯片微纳加工剥离办法专利，保存锚定于衬底上的方针金属层

  莱宝高科请求显现基板制造的进程专利，显着提高显现基板的结构可靠性与惯例运用的寿数